“哈哈，真是什么都瞒不过你啊！我想知道到了哪个阶段了？”

　　任郑飞今天约萧雨晴和白凡见面，就是为了聊EUV光刻机的事情。

　　DUV光刻机利用浸没技术将193nm光源等效为134nm波长，并通过多重曝光工艺实现了7nm制程。

　　然而，这种依赖多次曝光的方式在追求7nm极限时，往往面临良率与成本难以承受的挑战。

　　相比之下，EUV光刻机凭借其极短的波长（13.5nm），能够直接曝光5n...