在这天，天凡科技召开了新闻发布会。

　　林本坚在发布会上，正式公布了他研制出了首台65nm浸没式光刻机，还明确表示已经突破了45nm。

　　华夏半导体界陷入沸腾，而全球的半导体行业也会因为这个消息而地震。

　　华夏芯片制造被“卡脖子”的屈辱一扫而空，媒体头条狂呼：“华夏光刻破壁！自研光刻机弯道超车！”。

　　此前，华夏的企业连90nm干式光刻机都依赖进口，如今直接跨越两代技术鸿沟。

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